钼溅射靶

钼涂层在TFT-LCD屏幕中使用的薄膜晶体管中是必不可少的，可以直接控制单个图像点(像素)。这样，就能保证特别清晰的图像质量。除此之外，在CIGS太阳能电池中，钼层被用作背面触点。

钼薄膜的生产

磁控溅射方法是基于微小金属颗粒从溅射目标汽化，随后沉积在玻璃基板上的薄膜。这是一种快速经济的涂覆工艺。当然，所有材料都必须符合最高质量标准。

平面钼靶

二十多年来，Plansee材料已作为薄膜应用于TFT显示器。

攀时提供单件和多件平面和旋转目标，这些目标将在内部粘合。此外，攀时还为所有常用系统以及个别客户的需求生产溅射靶。

这些电影的主要特点是:

在PVD过程中具有优异的导电性和最小的颗粒形成。这是由于溅射靶中的金属和气态杂质在溅射功能层中几乎以1:1的比例再现，并在PVD过程中导致颗粒形成。这就是所谓的电弧效应。

攀时保证钼靶的纯度至少为99.97%。Plansee目标的平均纯度甚至达到了不可战胜的99.99%。此外，典型的氧含量低至6ppm。

这样，Plansee有助于确保TFT-LCD显示屏中的每个像素都可以被精确控制，并且CIGS后触点能够正常工作。

由于其特殊的成形工艺，Plansee的钼溅射靶的密度几乎达到100%，由于溅射速度的提高，导致了更快的过程。钼靶密度越大，生成层的电导率越高。